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產品型號：STB-3-17

爐膛容積：3L

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：可用于陶瓷、玻璃、搪瓷等行業(yè)實驗室制備熔塊、玻璃低溫熔劑、搪瓷釉和結合劑等

產品型號：STJ-300-17

爐管尺寸：300*300*300mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：該產品主要應用于金屬合金、無機非金屬化合物材料、陶瓷材料的高溫燒結和熔融熱處理領域

產品型號：STJ-200-14

爐管尺寸：200*200*200mm

額定溫度：1400℃

控溫精度：±1℃

應用領域：產品主要應用于金屬合金、無機非金屬化合物材料、陶瓷材料的高溫燒結和熔融熱處理領域

產品型號：STJ-200-12

爐管尺寸：Φ200×300mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：主要應用于金屬合金、無機非金屬化合物材料、陶瓷材料的高溫燒結和熔融熱處理領域

產品型號：STGL-60-12

爐管尺寸：Φ60×1200mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：應用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGX-120-12F

爐管尺寸：Φ120×1500mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：真空連續(xù)加料回轉管式爐主要應用于無機非金屬化合物材料、鋰電正負極材料、陶瓷材料、新能源和新材料行業(yè)的顆粒粉末燒結熱處理專用設備

產品型號：STGX-60-12

爐管尺寸：Φ60×1200mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：該產品廣泛應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGX-60-14

爐管尺寸：Φ60×1000mm

額定溫度：1400℃

控溫精度：±1℃

應用領域：用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)等行業(yè)實驗室高溫熱處理工藝，適用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域

產品型號：STGL-60-17

爐管尺寸：Φ40×1500mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGL-40-17

爐管尺寸：Φ40×900mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：單溫區(qū)立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGL-18-12

爐管尺寸：Φ25×900mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：單溫區(qū)立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGC-80-12

爐管尺寸：Φ80×1000mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料